Wafer de safira de 4 polegadas, plano C, SSP/DSP, 0,43 mm, 0,65 mm
Aplicações
● Substrato de crescimento para compostos III-V e II-VI.
● Eletrônica e optoeletrônica.
● Aplicações de infravermelho.
● Circuito Integrado de Silício sobre Safira (SOS).
● Circuito Integrado de Radiofrequência (RFIC).
Na produção de LEDs, wafers de safira são usados como substrato para o crescimento de cristais de nitreto de gálio (GaN), que emitem luz quando uma corrente elétrica é aplicada. A safira é um material de substrato ideal para o crescimento de GaN porque possui estrutura cristalina e coeficiente de expansão térmica semelhantes aos do GaN, o que minimiza defeitos e melhora a qualidade do cristal.
Na área da óptica, as lâminas de safira são utilizadas como janelas e lentes em ambientes de alta pressão e alta temperatura, bem como em sistemas de imagem infravermelha, devido à sua elevada transparência e dureza.
Especificação
| Item | Wafer de safira de 4 polegadas, plano C (0001), 650 μm | |
| Materiais cristalinos | Al2O3 monocristalino de alta pureza (99,999%). | |
| Nota | Prime, pronto para Epi | |
| Orientação da superfície | Plano C(0001) | |
| Ângulo de inclinação do plano C em relação ao eixo M: 0,2 +/- 0,1° | ||
| Diâmetro | 100,0 mm +/- 0,1 mm | |
| Grossura | 650 μm +/- 25 μm | |
| Orientação plana primária | Plano A(11-20) +/- 0,2° | |
| Comprimento plano primário | 30,0 mm +/- 1,0 mm | |
| Polido em um lado | Superfície frontal | Polido epitaxialmente, Ra < 0,2 nm (por AFM) |
| (SSP) | Superfície posterior | Moagem fina, Ra = 0,8 μm a 1,2 μm |
| Polido em ambos os lados | Superfície frontal | Polido epitaxialmente, Ra < 0,2 nm (por AFM) |
| (DSP) | Superfície posterior | Polido epitaxialmente, Ra < 0,2 nm (por AFM) |
| TTV | < 20 μm | |
| ARCO | < 20 μm | |
| URDIDURA | < 20 μm | |
| Limpeza/Embalagem | Limpeza de salas limpas classe 100 e embalagem a vácuo. | |
| 25 unidades em uma embalagem tipo cassete ou embalagem individual. | ||
Embalagem e envio
De modo geral, fornecemos a embalagem em caixas com 25 unidades; também podemos embalar individualmente em contêineres para wafers, em sala limpa de grau 100, de acordo com a necessidade do cliente.
Diagrama detalhado



