Substrato de wafer de safira de 150 mm (6 polegadas), 0,7 mm, 0,5 mm, para SSP/DSP de plano C
Aplicações
As aplicações para wafers de safira de 6 polegadas incluem:
1. Fabricação de LEDs: o wafer de safira pode ser usado como substrato para chips de LED, e sua dureza e condutividade térmica podem melhorar a estabilidade e a vida útil dos chips de LED.
2. Fabricação de lasers: O wafer de safira também pode ser usado como substrato para lasers, ajudando a melhorar o desempenho e prolongar a vida útil do equipamento.
3. Fabricação de semicondutores: Os wafers de safira são amplamente utilizados na fabricação de dispositivos eletrônicos e optoeletrônicos, incluindo síntese óptica, células solares, dispositivos eletrônicos de alta frequência, etc.
4. Outras aplicações: O wafer de safira também pode ser usado para fabricar telas sensíveis ao toque, dispositivos ópticos, células solares de película fina e outros produtos de alta tecnologia.
Especificação
| Material | Lâmina de safira monocristalina de Al2O3 de alta pureza. |
| Dimensão | 150 mm +/- 0,05 mm, 6 polegadas |
| Grossura | 1300 +/- 25 µm |
| Orientação | Plano C (0001) fora do plano M (1-100) 0,2 +/- 0,05 graus |
| Orientação plana primária | Um plano com +/- 1 grau |
| Comprimento plano primário | 47,5 mm +/- 1 mm |
| Variação Total da Espessura (TTV) | <20 µm |
| Arco | <25 µm |
| Urdidura | <25 µm |
| Coeficiente de Expansão Térmica | 6,66 x 10⁻⁶ / °C paralelo ao eixo C, 5 x 10⁻⁶ /°C perpendicular ao eixo C |
| Rigidez dielétrica | 4,8 x 10⁵ V/cm |
| Constante dielétrica | 11,5 (1 MHz) ao longo do eixo C, 9,3 (1 MHz) perpendicular ao eixo C |
| Tangente de perda dielétrica (também conhecida como fator de dissipação) | menos de 1 x 10-4 |
| Condutividade térmica | 40 W/(mK) a 20℃ |
| Polimento | Polimento de um lado (SSP) ou polimento de ambos os lados (DSP) com Ra < 0,5 nm (por AFM). O lado oposto da pastilha SSP foi retificado finamente até Ra = 0,8 - 1,2 µm. |
| Transmitância | 88% +/-1 % a 460 nm |
Diagrama detalhado



