Substrato de safira padronizado (PSS) de 2, 4 e 6 polegadas no qual o material GaN é cultivado pode ser usado para iluminação LED

Descrição curta:

O substrato de safira padronizado (PSS) é uma máscara para gravação a seco sobre o substrato de safira. A máscara é gravada com um padrão por um processo litográfico padrão e, em seguida, a safira é gravada por meio da tecnologia de gravação ICP. A máscara é removida e, por fim, o material GaN é cultivado sobre ela, de modo que a epitaxia longitudinal do material GaN se torna epitaxia horizontal. Esse processo envolve várias etapas, como revestimento fotorresistente, exposição por etapas, desenvolvimento do padrão de exposição, gravação a seco ICP e limpeza.


Detalhes do produto

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Principais características

1. Características estruturais:
A superfície do PSS tem um padrão cônico ordenado ou triangular cuja forma, tamanho e distribuição podem ser controlados ajustando os parâmetros do processo de gravação.
Essas estruturas gráficas ajudam a alterar o caminho de propagação da luz e reduzir a reflexão total da luz, melhorando assim a eficiência da extração de luz.

2. Características do material:
O PSS usa safira de alta qualidade como material de substrato, que tem as características de alta dureza, alta condutividade térmica, boa estabilidade química e transparência óptica.
Essas características permitem que o PSS resista a ambientes adversos, como altas temperaturas e pressões, mantendo ao mesmo tempo excelente desempenho óptico.

3. Desempenho óptico:
Ao alterar a dispersão múltipla na interface entre GaN e substrato de safira, o PSS faz com que os fótons que são completamente refletidos dentro da camada de GaN tenham uma chance de escapar do substrato de safira.
Esse recurso melhora significativamente a eficiência de extração de luz do LED e aumenta a intensidade luminosa do LED.

4. Características do processo:
O processo de fabricação do PSS é relativamente complexo, envolvendo várias etapas, como litografia e gravação, e requer equipamentos de alta precisão e controle de processo.
Entretanto, com o avanço contínuo da tecnologia e a redução de custos, o processo de fabricação do PSS é gradualmente otimizado e aprimorado.

Vantagem principal

1. Melhora a eficiência de extração de luz: o PSS melhora significativamente a eficiência de extração de luz do LED, alterando o caminho de propagação da luz e reduzindo a reflexão total.

2. Prolongue a vida útil do LED: o PSS pode reduzir a densidade de deslocamento dos materiais epitaxiais de GaN, reduzindo assim a recombinação não radiativa e a corrente de fuga reversa na região ativa, prolongando a vida útil do LED.

3. Melhora o brilho do LED: Devido à melhoria da eficiência de extração de luz e à extensão da vida útil do LED, a intensidade luminosa do LED no PSS é significativamente aumentada.

4. Reduzir os custos de produção: Embora o processo de fabricação do PSS seja relativamente complexo, ele pode melhorar significativamente a eficiência luminosa e a vida útil do LED, reduzindo assim os custos de produção até certo ponto e melhorando a competitividade do produto.

Principais áreas de aplicação

1. Iluminação LED: O PSS como material de substrato para chips de LED pode melhorar significativamente a eficiência luminosa e a vida útil do LED.
No campo da iluminação LED, o PSS é amplamente utilizado em vários produtos de iluminação, como postes de luz, luminárias de mesa, luzes de carro e assim por diante.

2. Dispositivos semicondutores: Além da iluminação LED, o PSS também pode ser usado para fabricar outros dispositivos semicondutores, como detectores de luz, lasers, etc. Esses dispositivos têm uma ampla gama de aplicações em comunicação, medicina, militar e outros campos.

3. Integração optoeletrônica: As propriedades ópticas e a estabilidade do PSS o tornam um dos materiais ideais no campo da integração optoeletrônica. Na integração optoeletrônica, o PSS pode ser usado para fazer guias de ondas ópticas, interruptores ópticos e outros componentes para realizar a transmissão e o processamento de sinais ópticos.

Parâmetros técnicos

Item Substrato de safira estampado (2 a 6 polegadas)
Diâmetro 50,8 ± 0,1 mm 100,0 ± 0,2 mm 150,0 ± 0,3 mm
Grossura 430 ± 25μm 650 ± 25μm 1000 ± 25μm
Orientação da superfície Plano C (0001) fora do ângulo em direção ao eixo M (10-10) 0,2 ± 0,1°
Plano C (0001) fora do ângulo em direção ao eixo A (11-20) 0 ± 0,1°
Orientação plana primária Plano A (11-20) ± 1,0°
Comprimento plano primário 16,0 ± 1,0 mm 30,0 ± 1,0 mm 47,5 ± 2,0 mm
Plano R 9 horas
Acabamento da superfície frontal Padronizado
Acabamento da superfície traseira SSP: finamente moído, Ra = 0,8-1,2 µm; DSP: epipolido, Ra < 0,3 nm
Marca a laser Lado de trás
TTV ≤8μm ≤10μm ≤20μm
ARCO ≤10μm ≤15μm ≤25μm
URDIDURA ≤12μm ≤20μm ≤30μm
Exclusão de Borda ≤2 mm
Especificação de Padrão Estrutura da forma Cúpula, Cone, Pirâmide
Altura do padrão 1,6~1,8μm
Diâmetro do padrão 2,75~2,85μm
Espaço de padrões 0,1~0,3μm

A XKH concentra-se no desenvolvimento, produção e vendas de substratos de safira padronizados (PSS) e está comprometida em fornecer produtos de PSS de alta qualidade e alto desempenho para clientes em todo o mundo. A XKH possui tecnologia de fabricação avançada e uma equipe técnica profissional, capaz de personalizar os produtos de PSS com diferentes especificações e estruturas de padrões, de acordo com as necessidades do cliente. Ao mesmo tempo, a XKH se preocupa com a qualidade dos produtos e serviços, e está comprometida em fornecer aos clientes uma gama completa de suporte técnico e soluções. Na área de PSS, a XKH acumulou vasta experiência e vantagens e espera trabalhar em conjunto com parceiros globais para promover conjuntamente o desenvolvimento inovador de iluminação LED, dispositivos semicondutores e outras indústrias.

Diagrama Detalhado

Substrato de safira padronizado (PSS) 6
Substrato de safira padronizado (PSS) 5
Substrato de safira padronizado (PSS) 4

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