Suporte de substrato de wafer de safira de 150 mm, 6 polegadas, 0,7 mm e 0,5 mm, plano C SSP/DSP
Aplicações
As aplicações para wafers de safira de 6 polegadas incluem:
1. Fabricação de LED: o wafer de safira pode ser usado como substrato de chips de LED, e sua dureza e condutividade térmica podem melhorar a estabilidade e a vida útil dos chips de LED.
2. Fabricação a laser: O wafer de safira também pode ser usado como substrato do laser, para ajudar a melhorar o desempenho do laser e prolongar sua vida útil.
3. Fabricação de semicondutores: Os wafers de safira são amplamente utilizados na fabricação de dispositivos eletrônicos e optoeletrônicos, incluindo síntese óptica, células solares, dispositivos eletrônicos de alta frequência, etc.
4. Outras aplicações: O wafer de safira também pode ser usado para fabricar telas sensíveis ao toque, dispositivos ópticos, células solares de película fina e outros produtos de alta tecnologia.
Especificação
Material | Al2O3 monocristal de alta pureza, pastilha de safira. |
Dimensão | 150 mm +/- 0,05 mm, 6 polegadas |
Grossura | 1300 +/- 25 um |
Orientação | Plano C (0001) fora do plano M (1-100) 0,2 +/- 0,05 graus |
Orientação plana primária | Um plano +/- 1 grau |
Comprimento plano primário | 47,5 mm +/- 1 mm |
Variação Total da Espessura (TTV) | <20 um |
Arco | <25 um |
Urdidura | <25 um |
Coeficiente de Expansão Térmica | 6,66 x 10-6 / °C paralelo ao eixo C, 5 x 10-6 /°C perpendicular ao eixo C |
Rigidez Dielétrica | 4,8 x 105 V/cm |
Constante Dielétrica | 11,5 (1 MHz) ao longo do eixo C, 9,3 (1 MHz) perpendicular ao eixo C |
Tangente de perda dielétrica (também conhecida como fator de dissipação) | menos de 1 x 10-4 |
Condutividade térmica | 40 W/(mK) a 20℃ |
Polimento | Polimento de um lado (SSP) ou polimento de dois lados (DSP) Ra < 0,5 nm (por AFM). O verso da pastilha SSP foi finamente moído até Ra = 0,8 - 1,2 µm. |
Transmitância | 88% +/-1% a 460 nm |
Diagrama Detalhado

