tipo 4H-N das bolachas SiC do carboneto de silicone de 6 polegadas 150mm para a pesquisa da produção de MOS ou de SBD e a categoria do manequim

Breve descrição:

O substrato de cristal único de carboneto de silício de 6 polegadas é um material de alto desempenho com excelentes propriedades físicas e químicas. Fabricado a partir de material de cristal único de carboneto de silício de alta pureza, apresenta condutividade térmica superior, estabilidade mecânica e resistência a altas temperaturas. Este substrato, feito com processos de fabricação de precisão e materiais de alta qualidade, tornou-se o material preferido para a fabricação de dispositivos eletrônicos de alta eficiência em diversas áreas.


Detalhes do produto

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Campos de aplicação

O substrato de cristal único de carboneto de silício de 6 polegadas desempenha um papel crucial em vários setores. Em primeiro lugar, é amplamente utilizado na indústria de semicondutores para a fabricação de dispositivos eletrônicos de alta potência, como transistores de potência, circuitos integrados e módulos de potência. Sua alta condutividade térmica e resistência a altas temperaturas permitem melhor dissipação de calor, resultando em maior eficiência e confiabilidade. Em segundo lugar, as pastilhas de carboneto de silício são essenciais nos campos de investigação para o desenvolvimento de novos materiais e dispositivos. Além disso, o wafer de carboneto de silício encontra amplas aplicações no campo da optoeletrônica, incluindo a fabricação de LEDs e diodos laser.

Especificações do produto

O substrato de cristal único de carboneto de silício de 6 polegadas tem um diâmetro de 6 polegadas (aproximadamente 152,4 mm). A rugosidade da superfície é Ra <0,5 nm e a espessura é 600 ± 25 μm. O substrato pode ser personalizado com condutividade tipo N ou tipo P, com base nas necessidades do cliente. Além disso, apresenta excepcional estabilidade mecânica, capaz de suportar pressão e vibração.

Diâmetro 150 ± 2,0 mm (6 polegadas)

Grossura

350 μm±25μm

Orientação

No eixo: <0001>±0,5°

Fora do eixo: 4,0° em direção a 1120±0,5°

Politipo 4H

Resistividade (Ω·cm)

4H-N

0,015~0,028Ω·cm/0,015~0,025ohm·cm

4/6H-SI

>1E5

Orientação plana primária

{10-10}±5,0°

Comprimento plano primário (mm)

47,5mm±2,5mm

Borda

Chanfro

TTV/Arco/Urdidura (um)

≤15 /≤40 /≤60

Frente AFM (face Si)

Ra≤1 nm polonês

CMP Ra≤0,5nm

LTV

≤3μm(10mm*10mm)

≤5μm(10mm*10mm)

≤10μm(10mm*10mm)

TTV

≤5μm

≤10μm

≤15μm

Casca de laranja/caroços/rachaduras/contaminação/manchas/estrias

Nenhum Nenhum Nenhum

recuos

Nenhum Nenhum Nenhum

O substrato de cristal único de carboneto de silício de 6 polegadas é um material de alto desempenho amplamente utilizado nas indústrias de semicondutores, pesquisa e optoeletrônica. Oferece excelente condutividade térmica, estabilidade mecânica e resistência a altas temperaturas, tornando-o adequado para a fabricação de dispositivos eletrônicos de alta potência e pesquisa de novos materiais. Fornecemos várias especificações e opções de personalização para atender às diversas demandas dos clientes.Contate-nos para mais detalhes sobre wafers de carboneto de silício!

Diagrama Detalhado

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