Substrato de borosilicato avançado para wafer de vidro BF33 2″4″6″8″12″

Wafer de vidro BF33 - Substrato de borosilicato avançado, 2″4″6″8″12″ - Imagem em destaque

Descrição curta:

O wafer de vidro BF33, reconhecido internacionalmente pelo nome comercial BOROFLOAT 33, é um vidro float de borosilicato de alta qualidade, desenvolvido pela SCHOTT utilizando um método especializado de produção de microfloat. Este processo de fabricação produz lâminas de vidro com espessura excepcionalmente uniforme, excelente planicidade superficial, microrrugosidade mínima e excelente transparência óptica.

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Características

Diagrama Detalhado

Visão geral do wafer de vidro BF33

Uma característica distintiva fundamental do BF33 é seu baixo coeficiente de expansão térmica (CTE) de aproximadamente 3,3 × 10^-6 K^-1, tornando-o ideal para substratos de silício. Essa propriedade permite integração sem estresse em microeletrônica, MEMS e dispositivos optoeletrônicos.

Wafer de quartzo ultrafino de alta qualidade com espessura de 0 a 1 mm

Composição do material do wafer de vidro BF33

O BF33 pertence à família do vidro borossilicato e contém mais de80% sílica (SiO2), juntamente com óxido de boro (B2O3), óxidos alcalinos e traços de óxido de alumínio. Esta formulação fornece:

Menor densidadecomparado ao vidro de cal sodada, reduzindo o peso total do componente.
Conteúdo alcalino reduzido, minimizando a lixiviação de íons em sistemas analíticos ou biomédicos sensíveis.
Resistência melhoradaao ataque químico de ácidos, álcalis e solventes orgânicos.

Processo de produção do wafer de vidro BF33

Os wafers de vidro BF33 são produzidos por meio de uma série de etapas controladas com precisão. Primeiramente, as matérias-primas de alta pureza — principalmente sílica, óxido de boro e traços de óxidos alcalinos e de alumínio — são pesadas e misturadas com precisão. O lote é fundido em altas temperaturas e refinado para eliminar bolhas e impurezas. Utilizando o processo de microflotação, o vidro fundido flui sobre o estanho fundido para formar folhas altamente planas e uniformes. Essas folhas são recozidas lentamente para aliviar a tensão interna, depois cortadas em placas retangulares e posteriormente estampadas em wafers redondos. As bordas do wafer são chanfradas ou biseladas para maior durabilidade, seguidas de lapidação de precisão e polimento duplo para obter superfícies ultralisas. Após a limpeza ultrassônica em sala limpa, cada wafer passa por uma rigorosa inspeção de dimensões, planicidade, qualidade óptica e defeitos de superfície. Por fim, os wafers são embalados em recipientes livres de contaminação para garantir a retenção da qualidade até o uso.

Propriedades mecânicas do wafer de vidro BF33

Produto	BOROFLOAT 33
Densidade	2,23 g/cm3
Módulo de Elasticidade	63 kN/mm2
Dureza Knoop HK 0,1/20	480
Razão de Poisson	0,2
Constante Dielétrica (@ 1 MHz e 25°C)	4.6
Tangente de perda (@ 1 MHz e 25°C)	37 x 10-4
Rigidez Dielétrica a 50 Hz e 25°C)	16 kV/mm
Índice de refração	1.472
Dispersão (nF - nC)	71,9 x 10-4

Perguntas frequentes sobre o wafer de vidro BF33

O que é vidro BF33?

O BF33, também chamado de BOROFLOAT® 33, é um vidro float de borosilicato premium fabricado pela SCHOTT por meio do processo microfloat. Oferece baixa expansão térmica (~3,3 × 10⁻⁶ K⁻¹), excelente resistência ao choque térmico, alta transparência óptica e excelente durabilidade química.

Qual a diferença entre o BF33 e o vidro comum?

Comparado ao vidro de cal sodada, o BF33:

Tem um coeficiente de expansão térmica muito menor, reduzindo o estresse causado por mudanças de temperatura.
É mais resistente quimicamente a ácidos, álcalis e solventes.
Oferece maior transmissão de UV e IR.
Oferece melhor resistência mecânica e resistência a riscos.

Por que o BF33 é usado em aplicações de semicondutores e MEMS?

Sua expansão térmica se assemelha à do silício, tornando-o ideal para ligações anódicas e microfabricação. Sua durabilidade química também permite que ele resista a processos de corrosão, limpeza e alta temperatura sem degradação.

O BF33 suporta altas temperaturas?

Uso contínuo: até ~450 °C
Exposição de curto prazo (≤ 10 horas): até ~500 °C
Seu baixo CTE também lhe confere excelente resistência a mudanças térmicas rápidas.

Sobre nós

A XKH é especializada no desenvolvimento, produção e vendas de alta tecnologia de vidros ópticos especiais e novos materiais de cristal. Nossos produtos atendem aos setores de eletrônica óptica, eletrônica de consumo e militar. Oferecemos componentes ópticos de safira, capas para lentes de celulares, cerâmicas, LT, SIC de carboneto de silício, quartzo e wafers de cristal semicondutor. Com expertise especializada e equipamentos de última geração, nos destacamos no processamento de produtos não padronizados, visando ser uma empresa líder em alta tecnologia em materiais optoeletrônicos.

Substrato de safira bruto de alta pureza para processamento de wafer de safira 5