Haste e pino de elevação de safira industrial, pino de safira Al2O3 de alta dureza para manuseio de wafers, sistema de radar e processamento de semicondutores – diâmetro de 1,6 mm a 2 mm
Resumo
A Haste e o Pino de Elevação de Safira Industrial são projetados com precisão e durabilidade para aplicações de alta demanda, como manuseio de wafers, sistemas de radar e processamento de semicondutores. Feitos de Al2O3 (safira) monocristal, esses pinos oferecem dureza e resistência térmica excepcionais. Disponíveis em diâmetros que variam de 1,6 mm a 2 mm, essas hastes e pinos de elevação são personalizáveis para atender a requisitos industriais específicos. Eles oferecem excelente resistência a arranhões e baixo desgaste, tornando-os componentes essenciais para sistemas de alto desempenho.
Características
●Alta dureza e durabilidade:Com uma dureza Mohs de 9, esses pinos e hastes são resistentes a arranhões, garantindo desempenho duradouro em aplicações de alto desgaste.
●Tamanhos personalizáveis:Disponível em diâmetros de 1,6 mm a 2 mm, com a opção de dimensões personalizadas para atender às necessidades específicas da aplicação.
●Resistência térmica:O alto ponto de fusão da safira (2040 °C) garante que esses pinos possam suportar ambientes de alta temperatura sem se degradar.
●Excelentes propriedades ópticas:A clareza óptica inerente da safira torna esses pinos de elevação adequados para uso em sistemas ópticos e dispositivos de precisão.
●Baixo atrito e desgaste:A superfície lisa da safira minimiza o desgaste tanto no pino de elevação quanto no equipamento, reduzindo os custos de manutenção.
Aplicações
●Manuseio de wafers:Usado no processamento de semicondutores para manipulação delicada de wafers.
●Sistemas de radar:Pinos de alto desempenho usados em sistemas de radar por sua durabilidade e precisão.
●Processamento de semicondutores:Perfeito para manusear wafers e outros componentes em processos de fabricação de semicondutores de alta tecnologia.
●Sistemas Industriais:Adequado para uma variedade de aplicações industriais que exigem alta durabilidade e precisão.
Parâmetros do produto
| Recurso | Especificação |
| Material | Al2O3 Monocristal (Safira) |
| Dureza | Mohs 9 |
| Faixa de diâmetro | 1,6 mm a 2 mm |
| Condutividade térmica | 27 W·m^-1·K^-1 |
| Ponto de fusão | 2040°C |
| Densidade | 3,97g/cc |
| Aplicações | Manuseio de wafers, sistemas de radar, processamento de semicondutores |
| Personalização | Disponível em tamanhos personalizados |
Perguntas e Respostas (Perguntas Frequentes)
P1: Por que a safira é um bom material para pinos de elevação usados no manuseio de wafers?
A1: A safira é altamenteresistente a arranhõese tem umalto ponto de fusão, tornando-se um excelente material para operações delicadas comomanuseio de wafers, onde precisão e durabilidade são fundamentais.
P2: Qual é a vantagem de personalizar o tamanho dos pinos de elevação de safira?
A2: Os tamanhos personalizados permitem que esses pinos de elevação sejam adaptados para se adequarem a aplicações específicas, garantindo desempenho ideal em uma variedade de sistemas, incluindoprocessamento de semicondutoresesistemas de radar.
Q3: Os pinos de elevação de safira podem ser usados em aplicações de alta temperatura?
A3: Sim,safiratem umalto ponto de fusãode2040°C, tornando-o ideal para uso em ambientes de alta temperatura.
Diagrama Detalhado
