Equipamento de tecnologia laser Microjet para corte de wafers e processamento de material SiC
Princípio de funcionamento:
1. Acoplamento a laser: um laser pulsado (UV/verde/infravermelho) é focalizado dentro do jato líquido para formar um canal de transmissão de energia estável.
2. Direcionamento de líquido: jato de alta velocidade (vazão de 50 a 200 m/s) que resfria a área de processamento e remove detritos para evitar acúmulo de calor e poluição.
3. Remoção de material: A energia do laser causa um efeito de cavitação no líquido para realizar o processamento a frio do material (zona afetada pelo calor <1μm).
4. Controle dinâmico: ajuste em tempo real dos parâmetros do laser (potência, frequência) e da pressão do jato para atender às necessidades de diferentes materiais e estruturas.
Parâmetros principais:
1. Potência do laser: 10-500W (ajustável)
2. Diâmetro do jato: 50-300 μm
3. Precisão de usinagem: ±0,5 μm (corte), relação profundidade/largura de 10:1 (furação)
Vantagens técnicas:
(1) Danos térmicos quase nulos
O resfriamento por jato líquido controla a zona afetada pelo calor (ZAC) para **<1μm**, evitando microfissuras causadas pelo processamento a laser convencional (a ZAC geralmente é >10μm).
(2) Usinagem de ultra-alta precisão
- Precisão de corte/furação de até **±0,5 μm**, rugosidade da borda Ra<0,2 μm, reduzindo a necessidade de polimento posterior.
- Suporta o processamento de estruturas 3D complexas (como furos cônicos e ranhuras com formatos especiais).
(3) Ampla compatibilidade de materiais
- Materiais duros e quebradiços: SiC, safira, vidro, cerâmica (os métodos tradicionais os tornam fáceis de quebrar).
- Materiais sensíveis ao calor: polímeros, tecidos biológicos (sem risco de desnaturação térmica).
(4) Proteção e eficiência ambiental
- Sem poluição por poeira, o líquido pode ser reciclado e filtrado.
- Aumento de 30% a 50% na velocidade de processamento (em comparação com a usinagem).
(5) Controle inteligente
- Posicionamento visual integrado e otimização de parâmetros por IA, espessura adaptativa do material e defeitos.
Especificações técnicas:
| Volume da bancada | 300*300*150 | 400*400*200 |
| Eixo linear XY | Motor linear. Motor linear | Motor linear. Motor linear |
| Eixo linear Z | 150 | 200 |
| Precisão de posicionamento em μm | +/-5 | +/-5 |
| Precisão de posicionamento repetido em μm | +/-2 | +/-2 |
| Aceleração G | 1 | 0,29 |
| Controle numérico | 3 eixos / 3+1 eixos / 3+2 eixos | 3 eixos / 3+1 eixos / 3+2 eixos |
| Tipo de controle numérico | DPSS Nd:YAG | DPSS Nd:YAG |
| Comprimento de onda nm | 532/1064 | 532/1064 |
| Potência nominal W | 50/100/200 | 50/100/200 |
| Jato de água | 40-100 | 40-100 |
| Barra de pressão do bico | 50-100 | 50-600 |
| Dimensões (máquina-ferramenta) (largura * comprimento * altura) mm | 1445*1944*2260 | 1700*1500*2120 |
| Dimensões (painel de controle) (L * C * A) | 700*2500*1600 | 700*2500*1600 |
| Peso (equipamento) T | 2,5 | 3 |
| Peso (painel de controle) KG | 800 | 800 |
| Capacidade de processamento | Rugosidade da superfície Ra≤1,6um Velocidade de abertura ≥1,25 mm/s Corte de circunferência ≥6mm/s Velocidade de corte linear ≥50mm/s | Rugosidade da superfície Ra≤1,2um Velocidade de abertura ≥1,25 mm/s Corte de circunferência ≥6mm/s Velocidade de corte linear ≥50mm/s |
| Para processamento de cristais de nitreto de gálio, materiais semicondutores de banda proibida ultra-ampla (diamante/óxido de gálio), materiais especiais para a indústria aeroespacial, substratos de cerâmica de carbono LTCC, células fotovoltaicas, cristais cintiladores e outros materiais. Nota: A capacidade de processamento varia dependendo das características do material.
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Processando o caso:
Serviços da XKH:
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Diagrama detalhado









