Estrutura cúbica de cristal único de substrato / wafer de Ni a = 3,25A densidade 8,91

Breve descrição:

Substratos de níquel (Ni), particularmente na forma de pastilhas de níquel, são amplamente utilizados na ciência dos materiais e na pesquisa eletrônica devido às suas propriedades versáteis. Disponíveis nas dimensões de 5x5x0,5 mm, 10x10x1 mm e 20x20x0,5 mm, esses substratos são orientados ao longo dos principais planos cristalográficos, como <100>, <110> e <111>. Essas orientações são críticas para influenciar a deposição de filmes finos, o crescimento epitaxial e os estudos de superfície, pois permitem a correspondência precisa da rede com vários materiais. Substratos de níquel são comumente empregados em aplicações envolvendo catálise, materiais magnéticos e supercondutores devido à sua excelente condutividade térmica e elétrica. Sua alta resistência mecânica e resistência à corrosão também os tornam adequados para técnicas avançadas de revestimento, desenvolvimento de sensores e nanoeletrônica. A combinação de precisão cristalográfica, flexibilidade dimensional e material de níquel de alta qualidade garante que esses substratos forneçam desempenho ideal em aplicações experimentais e industriais. Com sua capacidade de suportar uma ampla gama de filmes finos e revestimentos, os substratos de Ni são essenciais para o desenvolvimento de novos materiais e dispositivos em vários campos de alta tecnologia.


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Especificação

As orientações cristalográficas dos substratos de Ni, como <100>, <110> e <111>, desempenham um papel crucial na determinação da superfície do material e das propriedades de interação. Essas orientações fornecem capacidades de correspondência de rede com diferentes materiais de película fina, apoiando o crescimento preciso das camadas epitaxiais. Além disso, a resistência à corrosão do níquel o torna durável em ambientes agressivos, o que é benéfico para aplicações aeroespaciais, marítimas e de processamento químico. Sua resistência mecânica garante ainda que os substratos de Ni possam suportar os rigores do processamento físico e da experimentação sem degradação, fornecendo uma base estável para deposição de filmes finos e tecnologias de revestimento. Esta combinação de propriedades térmicas, elétricas e mecânicas torna os substratos de Ni essenciais para pesquisas avançadas em nanotecnologia, ciência de superfície e eletrônica.
As características do níquel podem incluir alta dureza e resistência, que pode chegar a 48-55 HRC. Boa resistência à corrosão, especialmente a ácidos e álcalis e outros meios químicos, possui excelente resistência à corrosão. Boa condutividade elétrica e magnetismo, é um dos principais componentes da fabricação de ligas eletromagnéticas.
O níquel pode ser usado em muitos campos, como material condutor para componentes eletrônicos e como material de contato. Utilizado na fabricação de baterias, motores, transformadores e outros equipamentos eletromagnéticos. Usado em conectores eletrônicos, linhas de transmissão e outros sistemas elétricos. Como material estrutural para equipamentos químicos, contêineres, tubulações, etc. Usado para fabricar equipamentos de reação química com altos requisitos de resistência à corrosão. É usado nas áreas farmacêutica, petroquímica e outras áreas onde a resistência à corrosão dos materiais é estritamente necessária.

Os substratos de níquel (Ni), devido às suas versáteis propriedades físicas, químicas e cristalográficas, encontram inúmeras aplicações em diversos campos científicos e industriais. Abaixo estão algumas das principais aplicações dos substratos de Ni: Os substratos de níquel são amplamente utilizados na deposição de filmes finos e camadas epitaxiais. As orientações cristalográficas específicas dos substratos de Ni, como <100>, <110> e <111>, fornecem correspondência de rede com vários materiais, permitindo o crescimento preciso e controlado de filmes finos. Os substratos de Ni são frequentemente usados ​​no desenvolvimento de dispositivos de armazenamento magnético, sensores e dispositivos spintrônicos, onde o controle do spin do elétron é fundamental para melhorar o desempenho do dispositivo. O níquel é um excelente catalisador para reações de evolução de hidrogênio (HER) e reações de evolução de oxigênio (OER), que são críticas na divisão de água e na tecnologia de células de combustível. Substratos de Ni são frequentemente utilizados como materiais de suporte para revestimentos catalíticos nessas aplicações, contribuindo para processos eficientes de conversão de energia.
Podemos personalizar várias especificações, espessuras e formatos de substrato de cristal único de Ni de acordo com os requisitos específicos dos clientes.

Diagrama Detalhado

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