Estrutura cúbica monocristalina do substrato/wafer de Ni a=3,25A densidade 8,91

As orientações cristalográficas dos substratos de níquel, como <100>, <110> e <111>, desempenham um papel crucial na determinação das propriedades de superfície e interação do material. Essas orientações proporcionam capacidades de correspondência de rede com diferentes materiais de filmes finos, possibilitando o crescimento preciso de camadas epitaxiais. Além disso, a resistência à corrosão do níquel o torna durável em ambientes agressivos, o que é benéfico para aplicações nos setores aeroespacial, marítimo e de processamento químico. Sua resistência mecânica garante ainda que os substratos de níquel possam suportar os rigores do processamento físico e da experimentação sem se degradar, fornecendo uma base estável para tecnologias de deposição e revestimento de filmes finos. Essa combinação de propriedades térmicas, elétricas e mecânicas torna os substratos de níquel essenciais para pesquisas avançadas em nanotecnologia, ciência de superfícies e eletrônica.
As características do níquel incluem alta dureza e resistência, podendo atingir durezas de até 48-55 HRC. Boa resistência à corrosão, especialmente a ácidos, álcalis e outros meios químicos, apresenta excelente resistência à corrosão. Boa condutividade elétrica e magnetismo são um dos principais componentes da fabricação de ligas eletromagnéticas.
O níquel pode ser utilizado em diversas áreas, como material condutor para componentes eletrônicos e como material de contato. É utilizado na fabricação de baterias, motores, transformadores e outros equipamentos eletromagnéticos. É utilizado em conectores eletrônicos, linhas de transmissão e outros sistemas elétricos. É também utilizado como material estrutural para equipamentos químicos, contêineres, tubulações, etc. É utilizado na fabricação de equipamentos de reação química com altos requisitos de resistência à corrosão. É utilizado nas indústrias farmacêutica, petroquímica e outras áreas onde a resistência à corrosão dos materiais é estritamente exigida.

Substratos de níquel (Ni), devido às suas versáteis propriedades físicas, químicas e cristalográficas, encontram inúmeras aplicações em uma variedade de campos científicos e industriais. Abaixo estão algumas das principais aplicações de substratos de Ni: Substratos de níquel são amplamente utilizados na deposição de filmes finos e camadas epitaxiais. As orientações cristalográficas específicas dos substratos de Ni, como <100>, <110> e <111>, fornecem correspondência de rede com vários materiais, permitindo o crescimento preciso e controlado de filmes finos. Substratos de Ni são frequentemente usados ​​no desenvolvimento de dispositivos de armazenamento magnético, sensores e dispositivos spintrônicos, onde o controle do spin do elétron é fundamental para melhorar o desempenho do dispositivo. O níquel é um excelente catalisador para reações de evolução de hidrogênio (HER) e reações de evolução de oxigênio (OER), que são críticas na divisão da água e na tecnologia de células de combustível. Substratos de Ni são frequentemente usados ​​como materiais de suporte para revestimentos catalíticos nessas aplicações, contribuindo para processos eficientes de conversão de energia.
Podemos personalizar várias especificações, espessuras e formatos de substrato de cristal único de Ni de acordo com os requisitos específicos dos clientes.