Estrutura cúbica monocristalina do substrato/wafer de Ni a=3,25A densidade 8,91

As orientações cristalográficas dos substratos de níquel, como <100>, <110> e <111>, desempenham um papel crucial na determinação das propriedades de superfície e interação do material. Essas orientações proporcionam capacidades de correspondência de rede com diferentes materiais de filmes finos, possibilitando o crescimento preciso de camadas epitaxiais. Além disso, a resistência à corrosão do níquel o torna durável em ambientes agressivos, o que é benéfico para aplicações nos setores aeroespacial, marítimo e de processamento químico. Sua resistência mecânica garante ainda que os substratos de níquel possam suportar os rigores do processamento físico e da experimentação sem se degradar, fornecendo uma base estável para tecnologias de deposição e revestimento de filmes finos. Essa combinação de propriedades térmicas, elétricas e mecânicas torna os substratos de níquel essenciais para pesquisas avançadas em nanotecnologia, ciência de superfícies e eletrônica.
As características do níquel incluem alta dureza e resistência, podendo atingir durezas de até 48-55 HRC. Boa resistência à corrosão, especialmente a ácidos, álcalis e outros meios químicos, apresenta excelente resistência à corrosão. Boa condutividade elétrica e magnetismo são um dos principais componentes da fabricação de ligas eletromagnéticas.
O níquel pode ser utilizado em diversas áreas, como material condutor para componentes eletrônicos e como material de contato. É utilizado na fabricação de baterias, motores, transformadores e outros equipamentos eletromagnéticos. É utilizado em conectores eletrônicos, linhas de transmissão e outros sistemas elétricos. É também utilizado como material estrutural para equipamentos químicos, contêineres, tubulações, etc. É utilizado na fabricação de equipamentos de reação química com altos requisitos de resistência à corrosão. É utilizado nas indústrias farmacêutica, petroquímica e outras áreas onde a resistência à corrosão dos materiais é estritamente exigida.

Substratos de níquel (Ni), devido às suas versáteis propriedades físicas, químicas e cristalográficas, encontram inúmeras aplicações em uma variedade de campos científicos e industriais. Abaixo estão algumas das principais aplicações de substratos de Ni: Substratos de níquel são amplamente utilizados na deposição de filmes finos e camadas epitaxiais. As orientações cristalográficas específicas dos substratos de Ni, como <100>, <110> e <111>, fornecem correspondência de rede com vários materiais, permitindo o crescimento preciso e controlado de filmes finos. Substratos de Ni são frequentemente usados no desenvolvimento de dispositivos de armazenamento magnético, sensores e dispositivos spintrônicos, onde o controle do spin do elétron é fundamental para melhorar o desempenho do dispositivo. O níquel é um excelente catalisador para reações de evolução de hidrogênio (HER) e reações de evolução de oxigênio (OER), que são críticas na divisão da água e na tecnologia de células de combustível. Substratos de Ni são frequentemente usados como materiais de suporte para revestimentos catalíticos nessas aplicações, contribuindo para processos eficientes de conversão de energia.
Podemos personalizar várias especificações, espessuras e formatos de substrato de cristal único de Ni de acordo com os requisitos específicos dos clientes.