Substrato de SiC tipo P, wafer de SiC de 2 polegadas, novo produto

Descrição resumida:

Wafer de carbeto de silício (SiC) tipo P de 2 polegadas, nos politipos 4H ou 6H. Possui propriedades semelhantes às do wafer de carbeto de silício (SiC) tipo N, como alta resistência à temperatura, alta condutividade térmica e alta condutividade elétrica. O substrato de SiC tipo P é geralmente utilizado na fabricação de dispositivos de potência, especialmente transistores bipolares de porta isolada (IGBTs). O projeto de IGBTs frequentemente envolve junções PN, onde o SiC tipo P pode ser vantajoso para o controle do comportamento dos dispositivos.


Características

Substratos de carbeto de silício do tipo P são comumente usados ​​na fabricação de dispositivos de potência, como transistores bipolares de porta isolada (IGBTs).

IGBT = MOSFET + BJT, que é um interruptor liga-desliga. MOSFET = IGFET (transistor de efeito de campo metal-óxido-semicondutor, ou transistor de efeito de campo do tipo porta isolada). BJT (transistor de junção bipolar, também conhecido como transistor), bipolar significa que há dois tipos de portadores, elétrons e lacunas, envolvidos no processo de condução, geralmente com uma junção PN envolvida na condução.

O wafer de carbeto de silício (SiC) tipo p de 2 polegadas apresenta politipos 4H ou 6H. Possui propriedades semelhantes aos wafers de carbeto de silício (SiC) tipo n, como alta resistência à temperatura, alta condutividade térmica e alta condutividade elétrica. Substratos de SiC tipo p são comumente utilizados na fabricação de dispositivos de potência, particularmente para a fabricação de transistores bipolares de porta isolada (IGBTs). O projeto de IGBTs normalmente envolve junções PN, onde o SiC tipo p é vantajoso para o controle do comportamento do dispositivo.

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Diagrama detalhado

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