Produtos
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Óptica Ruby, janela óptica de haste de rubi, cristal laser de titânio
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Método CVD para produção de matérias-primas de SiC de alta pureza em forno de síntese de carboneto de silício a 1600℃
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Forno de crescimento de cristais de SiC de 4, 6 e 8 polegadas para processo CVD
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Substrato composto de SiC tipo SEMI 4H de 6 polegadas Espessura 500μm TTV≤5μm Grau MOS
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Janelas ópticas de safira com formato personalizado Componentes de safira com polimento de precisão
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Placa/bandeja de cerâmica SiC para suporte de wafer de 4 e 6 polegadas para ICP
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Janela de safira com formato personalizado e alta dureza para telas de smartphones
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Substrato SiC de 12 polegadas, tipo N, tamanho grande, aplicações de RF de alto desempenho
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Substrato de semente SiC tipo N personalizado com diâmetro de 153/155 mm para eletrônica de potência
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Equipamento de desbaste de wafers para processamento de wafers de safira/SiC/Si de 4 a 12 polegadas
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Substrato SiC de 12 polegadas Diâmetro 300 mm Espessura 750μm Tipo 4H-N pode ser personalizado
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Substratos de cristal de semente de SiC personalizados com diâmetro de 205/203/208 tipo 4H-N para comunicações ópticas