Soluções de corrosão úmida e seca para wafers de safira
Diagrama detalhado
Apresentação do produto
Os wafers gravados em safira são fabricados utilizando substratos de safira monocristalina de alta pureza (Al₂O₃), processados por meio de fotolitografia avançada combinada comtecnologias de corrosão úmida e corrosão secaOs produtos apresentam padrões microestruturados altamente uniformes, excelente precisão dimensional e estabilidade física e química excepcional, tornando-os adequados para aplicações de alta confiabilidade em microeletrônica, optoeletrônica, encapsulamento de semicondutores e áreas de pesquisa avançada.
A safira é conhecida por sua excepcional dureza e estabilidade estrutural, com dureza 9 na escala de Mohs, perdendo apenas para o diamante. Controlando com precisão os parâmetros de corrosão, é possível formar microestruturas bem definidas e repetíveis na superfície da safira, garantindo bordas nítidas, geometria estável e excelente consistência entre lotes.

Tecnologias de gravação
Gravação úmida
A corrosão úmida utiliza soluções químicas especializadas para remover seletivamente o material da safira e formar as microestruturas desejadas. Esse processo oferece alta produtividade, boa uniformidade e custo de processamento relativamente baixo, tornando-o adequado para padronização em grandes áreas e aplicações com requisitos moderados de perfil de parede lateral.
Controlando com precisão a composição da solução, a temperatura e o tempo de corrosão, é possível obter um controle estável da profundidade de corrosão e da morfologia da superfície. As lâminas de safira corroídas por via úmida são amplamente utilizadas em substratos para encapsulamento de LEDs, camadas de suporte estrutural e em aplicações selecionadas de MEMS.
Gravação a seco
A gravação a seco, como a gravação por plasma ou a gravação iônica reativa (RIE), emprega íons de alta energia ou espécies reativas para gravar a safira por meio de mecanismos físicos e químicos. Esse método proporciona anisotropia superior, alta precisão e excelente capacidade de transferência de padrões, permitindo a fabricação de detalhes finos e microestruturas de alta relação de aspecto.
A gravação a seco é particularmente adequada para aplicações que exigem paredes laterais verticais, definição precisa de detalhes e controle dimensional rigoroso, como dispositivos Micro-LED, embalagens de semicondutores avançadas e estruturas MEMS de alto desempenho.
Principais características e vantagens
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Substrato de safira monocristalina de alta pureza com excelente resistência mecânica.
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Opções de processo flexíveis: corrosão úmida ou corrosão seca, de acordo com os requisitos da aplicação.
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Alta dureza e resistência ao desgaste para confiabilidade a longo prazo.
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Excelente estabilidade térmica e química, adequado para ambientes agressivos.
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Alta transparência óptica e propriedades dielétricas estáveis
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Alta uniformidade de padrão e consistência entre lotes.
Aplicações
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Substratos para encapsulamento e teste de LEDs e micro-LEDs
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Porta-chips semicondutores e embalagens avançadas
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Sensores MEMS e sistemas microeletromecânicos
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Componentes ópticos e estruturas de alinhamento de precisão
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Institutos de pesquisa e desenvolvimento de microestruturas personalizadas
Personalização e Serviços
Oferecemos serviços completos de personalização, incluindo design de padrões, seleção do método de corrosão (úmida ou seca), controle da profundidade de corrosão, opções de espessura e tamanho do substrato, corrosão em um ou ambos os lados e diferentes níveis de polimento da superfície. Procedimentos rigorosos de controle de qualidade e inspeção garantem que cada wafer de safira corroído atenda aos mais altos padrões de confiabilidade e desempenho antes da entrega.
FAQ – Perguntas Frequentes
P1: Qual a diferença entre ataque químico úmido e ataque químico seco para safira?
A:A corrosão úmida baseia-se em reações químicas e é adequada para processamento em grandes áreas e com boa relação custo-benefício, enquanto a corrosão seca utiliza técnicas baseadas em plasma ou íons para obter maior precisão, melhor anisotropia e controle mais refinado dos detalhes. A escolha depende da complexidade estrutural, dos requisitos de precisão e das considerações de custo.
Q2: Qual processo de corrosão devo escolher para minha aplicação?
A:A corrosão úmida é recomendada para aplicações que exigem padrões uniformes com precisão moderada, como substratos de LED padrão. A corrosão seca é mais adequada para aplicações de alta resolução, alta relação de aspecto ou micro-LEDs e MEMS, onde a geometria precisa é fundamental.
P3: Vocês oferecem suporte a padrões e especificações personalizados?
A:Sim. Oferecemos suporte a projetos totalmente personalizados, incluindo layout do padrão, tamanho do recurso, profundidade de gravação, espessura do wafer e dimensões do substrato.
Sobre nós
A XKH é especializada no desenvolvimento, produção e venda de alta tecnologia de vidros ópticos especiais e novos materiais cristalinos. Nossos produtos atendem aos setores de eletrônica óptica, eletrônicos de consumo e militar. Oferecemos componentes ópticos de safira, lentes para celulares, cerâmica, LT (tecido de baixa temperatura), carbeto de silício (SiC), quartzo e wafers de cristal semicondutor. Com expertise qualificada e equipamentos de ponta, nos destacamos no processamento de produtos não padronizados, com o objetivo de nos tornarmos uma empresa líder em alta tecnologia de materiais optoeletrônicos.












