Máquina de corte de fio diamantado de carboneto de silício 4/6/8/12 polegadas processamento de lingotes de SiC
Princípio de funcionamento:
1. Fixação do lingote: o lingote de SiC (4H/6H-SiC) é fixado na plataforma de corte por meio do dispositivo para garantir a precisão da posição (±0,02 mm).
2. Movimento da linha de diamante: a linha de diamante (partículas de diamante galvanizadas na superfície) é acionada pelo sistema de roda guia para circulação de alta velocidade (velocidade da linha 10~30m/s).
3. Alimentação de corte: o lingote é alimentado ao longo da direção definida, e a linha de diamante é cortada simultaneamente com várias linhas paralelas (100 a 500 linhas) para formar vários wafers.
4. Resfriamento e remoção de cavacos: borrife refrigerante (água deionizada + aditivos) na área de corte para reduzir danos causados pelo calor e remover cavacos.
Parâmetros principais:
1. Velocidade de corte: 0,2~1,0 mm/min (dependendo da direção do cristal e da espessura do SiC).
2. Tensão da linha: 20~50N (muito alta pode quebrar a linha facilmente, muito baixa pode afetar a precisão do corte).
3. Espessura do wafer: padrão 350~500μm, o wafer pode atingir 100μm.
Principais características:
(1) Precisão de corte
Tolerância de espessura: ±5μm (@350μm wafer), melhor que o corte de argamassa convencional (±20μm).
Rugosidade da superfície: Ra<0,5μm (não é necessária retificação adicional para reduzir a quantidade de processamento subsequente).
Empenamento: <10μm (reduz a dificuldade do polimento subsequente).
(2) Eficiência de processamento
Corte multilinha: corte de 100 a 500 peças por vez, aumentando a capacidade de produção de 3 a 5 vezes (em comparação ao corte de linha única).
Vida útil da linha: A linha de diamante pode cortar 100~300 km de SiC (dependendo da dureza do lingote e da otimização do processo).
(3) Processamento de baixo dano
Quebra de borda: <15μm (corte tradicional >50μm), melhora o rendimento do wafer.
Camada de dano subsuperficial: <5μm (reduz a remoção do polimento).
(4) Proteção ambiental e economia
Sem contaminação da argamassa: custos reduzidos de descarte de líquidos residuais em comparação ao corte com argamassa.
Utilização do material: Perda de corte <100μm/fresa, economizando matéria-prima de SiC.
Efeito de corte:
1. Qualidade do wafer: sem rachaduras macroscópicas na superfície, poucos defeitos microscópicos (extensão de deslocamento controlável). Pode entrar diretamente no elo de polimento bruto, encurtando o fluxo do processo.
2. Consistência: o desvio de espessura do wafer no lote é <±3%, adequado para produção automatizada.
3. Aplicabilidade: Suporta corte de lingotes 4H/6H-SiC, compatível com tipo condutivo/semi-isolado.
Especificação técnica:
Especificação | Detalhes |
Dimensões (C × L × A) | 2500x2300x2500 ou personalize |
Faixa de tamanho do material de processamento | 4, 6, 8, 10, 12 polegadas de carboneto de silício |
Rugosidade da superfície | Ra≤0,3u |
Velocidade média de corte | 0,3 mm/min |
Peso | 5,5t |
Etapas de configuração do processo de corte | ≤30 passos |
Ruído do equipamento | ≤80 dB |
Tensão do fio de aço | 0~110N (tensão do fio de 0,25 é 45N) |
Velocidade do fio de aço | 0~30m/s |
Potência total | 50 kW |
Diâmetro do fio diamantado | ≥0,18 mm |
Planicidade final | ≤0,05 mm |
Taxa de corte e quebra | ≤1% (exceto por razões humanas, material de silicone, linha, manutenção e outros motivos) |
Serviços XKH:
A XKH fornece todo o serviço de processo para máquinas de corte de fio diamantado de carboneto de silício, incluindo seleção de equipamentos (compatibilidade entre diâmetro e velocidade do fio), desenvolvimento de processos (otimização dos parâmetros de corte), fornecimento de consumíveis (fio diamantado, roda guia) e suporte pós-venda (manutenção do equipamento, análise da qualidade do corte), para auxiliar os clientes a alcançar alto rendimento (>95%) e baixo custo na produção em massa de wafers de SiC. Também oferece atualizações personalizadas (como corte ultrafino, carregamento e descarregamento automatizados) com prazo de entrega de 4 a 8 semanas.
Diagrama Detalhado


