Braço/mão de garfo de cerâmica SiC de carboneto de silício para sistemas de manuseio crítico

Descrição curta:

OGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioé um componente de ponta desenvolvido para automação industrial avançada, processamento de semicondutores e ambientes ultralimpos. Sua distinta arquitetura bifurcada e superfície cerâmica ultraplana o tornam ideal para o manuseio de substratos delicados, incluindo wafers de silício, painéis de vidro e dispositivos ópticos. Projetado com precisão e fabricado em carboneto de silício ultrapuro, oGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silíciooferece resistência mecânica incomparável, confiabilidade térmica e controle de contaminação.

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Características

Diagrama Detalhado

Introdução do braço/mão de garfo de cerâmica de carboneto de silício

Ao contrário dos braços convencionais de metal ou plástico, oGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioOferece desempenho estável em condições térmicas, químicas e de vácuo extremas. Seja operando em uma sala limpa Classe 1 ou em uma câmara de plasma de alto vácuo, este componente garante o transporte seguro, eficiente e sem resíduos de peças valiosas.

Com uma estrutura adaptada para braços robóticos, manipuladores de wafers e ferramentas de transferência automatizadas, oGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioé uma atualização inteligente para qualquer sistema de alta precisão.

Processo de fabricação de braço/mão de garfo de cerâmica de carboneto de silício

Criando um sistema de alto desempenhoGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioenvolve um fluxo de trabalho de engenharia cerâmica rigorosamente controlado que garante repetibilidade, confiabilidade e taxas de defeitos ultrabaixas.

1. Engenharia de Materiais

Somente pó de carboneto de silício de ultra-alta pureza é usado na fabricação doGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silício, garantindo baixa contaminação iônica e alta resistência em massa. Os pós são misturados com precisão com aditivos de sinterização e ligantes para atingir a densificação ideal.

2. Formando a Estrutura Base

A geometria da base dobraço/mão do garfoé formado por prensagem isostática a frio ou moldagem por injeção, o que garante alta densidade em bruto e distribuição uniforme de tensões. A configuração em U é otimizada para relação rigidez-peso e resposta dinâmica.

3. Processo de sinterização

O corpo verde doGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioé sinterizado em um forno de gás inerte de alta temperatura, a mais de 2000 °C. Essa etapa garante uma densidade próxima à teórica, produzindo um componente resistente a rachaduras, deformações e desvios dimensionais sob cargas térmicas reais.

4. Retificação e usinagem de precisão

Ferramentas diamantadas CNC avançadas são usadas para moldar as dimensões finais doGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silício. Tolerâncias rigorosas (±0,01 mm) e acabamento de superfície espelhado reduzem a liberação de partículas e o estresse mecânico.

5. Condicionamento e limpeza de superfícies

O acabamento final da superfície inclui polimento químico e limpeza ultrassônica para preparar obraço/mão do garfopara integração direta em sistemas ultralimpos. Revestimentos opcionais (CVD-SiC, camadas antirreflexo) também estão disponíveis.

Este processo meticuloso garante que cadaGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioatende aos mais rigorosos padrões industriais, incluindo os requisitos de sala limpa SEMI e ISO.

Parâmetro do braço/mão do garfo de cerâmica de carboneto de silício

Item	Condições de teste	Dados	Unidade
Teor de carboneto de silício	/	>99,5	%
Tamanho médio do grão	/	4-10	mícron
Densidade	/	>3,14	g/cm3
Porosidade aparente	/	<0,5	Volume %
Dureza Vickers	HV0,5	2800	Kg/mm2
Módulo de Ruptura (3 Pontos)	Tamanho da barra de teste: 3 x 4 x 40 mm	450	MPa
Resistência à compressão	20°C	3900	MPa
Módulo de Elasticidade	20°C	420	GPa
Resistência à fratura	/	3,5	MPa/m^1/2
Condutividade térmica	20°C	160	Com(mK)
Resistividade elétrica	20°C	10⁶-10⁸	Ωcm
Coeficiente de Expansão Térmica	20°C-800°C	4.3	K^-110^-6
Temperatura máxima de aplicação	Atmosfera de Óxido	1600	°C
Temperatura máxima de aplicação	Atmosfera inerte	1950	°C

Aplicações do braço/mão de garfo de cerâmica de carboneto de silício

OGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioProjetado para uso em aplicações de alta precisão, alto risco e sensíveis à contaminação, ele permite manuseio, transferência ou suporte confiáveis de componentes críticos sem comprometer nada.

➤ Indústria de Semicondutores

Usado como um garfo robótico em estações de transferência de wafer front-end e FOUP.
Integrado em câmaras de vácuo para processos de gravação de plasma e PVD/CVD.
Funciona como braço de suporte em ferramentas de metrologia e alinhamento de wafers.

OGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioelimina riscos de descarga eletrostática (ESD), oferece precisão dimensional e resiste à corrosão do plasma.

➤ Fotônica e Óptica

Suporta lentes delicadas, cristais de laser e sensores durante a fabricação ou inspeção.
Sua alta rigidez evita vibrações, enquanto o corpo de cerâmica resiste à contaminação das superfícies ópticas.

➤ Produção de Displays e Painéis

Manuseia vidro fino, módulos OLED e substratos LCD durante transporte ou inspeção.
O plano e quimicamente inerteGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioprotege contra arranhões ou corrosão química.

➤ Instrumentos Aeroespaciais e Científicos

Utilizado em montagens ópticas de satélite, robótica a vácuo e configurações de linhas de luz síncrotron.
Apresenta desempenho impecável em salas limpas de nível espacial e ambientes propensos à radiação.

Em cada campo, oGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioaumenta a eficiência do sistema, reduz falhas de peças e minimiza o tempo de inatividade.

FAQ – Perguntas frequentes sobre braço/mão de garfo de cerâmica de carboneto de silício

P1: O que torna o braço/mão de garfo de cerâmica de carboneto de silício melhor do que as alternativas de metal?

OGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioPossui dureza superior, menor densidade, melhor resistência química e expansão térmica significativamente menor do que os metais. Também é compatível com salas limpas e livre de corrosão ou geração de partículas.

P2: Posso solicitar dimensões personalizadas para meu braço/mão de garfo de cerâmica de carboneto de silício?

Sim. Oferecemos personalização completa, incluindo largura do garfo, espessura, furos de montagem, recortes e tratamentos de superfície. Seja para wafers de 6", 8" ou 12", seubraço/mão do garfopode ser adaptado para se ajustar.

Q3: Quanto tempo dura o braço/mão de cerâmica de carboneto de silício sob plasma ou vácuo?

Graças ao material SiC de alta densidade e à natureza inerte, obraço/mão do garfoPermanece funcional mesmo após milhares de ciclos de processo. Apresenta desgaste mínimo sob cargas térmicas agressivas de plasma ou vácuo.

Q4: O produto é adequado para salas limpas ISO Classe 1?

Com certeza. OGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silícioé fabricado e embalado em instalações de salas limpas certificadas, com níveis de partículas bem abaixo dos requisitos da Classe 1 da ISO.

P5: Qual é a temperatura máxima de operação para este braço/mão de garfo?

OGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silíciopode operar continuamente em até 1500°C, tornando-o adequado para uso direto em câmaras de processo de alta temperatura e sistemas de vácuo térmico.

Estas perguntas frequentes refletem as preocupações técnicas mais comuns de engenheiros, gerentes de laboratório e integradores de sistemas que usam oGarfo/braço de cerâmica de carboneto de silício.

Sobre nós

A XKH é especializada no desenvolvimento, produção e vendas de alta tecnologia de vidros ópticos especiais e novos materiais de cristal. Nossos produtos atendem aos setores de eletrônica óptica, eletrônica de consumo e militar. Oferecemos componentes ópticos de safira, capas para lentes de celulares, cerâmicas, LT, SIC de carboneto de silício, quartzo e wafers de cristal semicondutor. Com expertise especializada e equipamentos de última geração, nos destacamos no processamento de produtos não padronizados, visando ser uma empresa líder em alta tecnologia em materiais optoeletrônicos.