Substrato
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Substrato de safira bruto de alta pureza para processamento em branco de wafer de safira
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Cristal de semente quadrado de safira – substrato orientado para precisão para o crescimento de safira sintética
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Substrato monocristal de carboneto de silício (SiC) – wafer de 10×10 mm
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Wafer de SiC 4H-N HPSI 6H-N 6H-P 3C-N SiC Wafer epitaxial para MOS ou SBD
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Wafer Epitaxial de SiC para Dispositivos de Energia – 4H-SiC, tipo N, Baixa Densidade de Defeitos
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Wafer epitaxial de SiC tipo 4H-N de alta tensão e alta frequência
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Wafer LNOI (LiNbO3 em Isolador) de 8 polegadas para Moduladores Ópticos, Guias de Onda e Circuitos Integrados
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Wafer LNOI (Niobato de Lítio sobre Isolador) Telecomunicações Detecção de Alta Eletro-Óptica
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Wafers de carboneto de silício de alta pureza (não dopados) de 3 polegadas, substratos de silício semi-isolantes (HPSl)
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Wafer de substrato de SiC 4H-N de 8 polegadas, carboneto de silício, modelo de pesquisa, espessura de 500 µm
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safira dia cristal único, alta dureza morhs 9 resistente a riscos personalizável
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Substrato de safira padronizado PSS 2 polegadas 4 polegadas 6 polegadas ICP a gravação a seco pode ser usada para chips de LED