Estágio de rolamento a ar de SiC de ultraprecisão

Descrição resumida:

Com a evolução contínua da indústria de semicondutores, os equipamentos de processamento e inspeção exigem um desempenho cada vez maior. Com base em nossa vasta experiência em controle de movimento e posicionamento em nível nanométrico, desenvolvemos uma mesa planar de rolamento a ar de ultraprecisão com dois eixos e formato tipo H.

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Características

Diagrama detalhado

Visão geral

Projetada com uma estrutura cerâmica de carboneto de silício (SiC) otimizada por elementos finitos e tecnologia de rolamentos de ar compensados, a plataforma oferece precisão, rigidez e resposta dinâmica excepcionais. É ideal para:

Processamento e inspeção de semicondutores
Fabricação e metrologia em micro/nanoescala
Corte e polimento em escala nanométrica
digitalização de alta velocidade e precisão

Principais características

guia de rolamento de ar SiCpara rigidez e precisão ultra-elevadas
Alta dinâmicaVelocidade de até 1 m/s, aceleração de até 4 g, estabilização rápida.
Pórtico com acionamento duplo e eixo YGarante alta capacidade de carga e estabilidade.
Opções do codificador: grade óptica ou interferômetro a laser
Precisão de posicionamento: ±0,15 μm;repetibilidade: ±75 nm
Roteamento de cabos otimizadoPara um design limpo e confiabilidade a longo prazo
Configurações personalizáveispara necessidades específicas da aplicação

Design de ultraprecisão e arquitetura de acionamento direto sem contato.

Estrutura de cerâmica SiCCom rigidez aproximadamente 5 vezes maior que a da liga de alumínio e expansão térmica aproximadamente 5 vezes menor, garante estabilidade em altas velocidades e robustez térmica.
Mancal de ar compensadoDesign exclusivo que aprimora a rigidez, a capacidade de carga e a estabilidade de movimento.
Desempenho dinâmicoSuporta velocidade de 1 m/s e aceleração de 4 g, ideal para processos de alto rendimento.
Integração perfeitaCompatível com sistemas de isolamento de vibração, plataformas rotativas, módulos de inclinação e plataformas de manuseio de wafers.
Gerenciamento de CabosO raio de curvatura controlado minimiza o estresse, prolongando a vida útil.

Motor Linear Sem NúcleoMovimento suave com força de fricção zero.
Acionamento MultimotorO posicionamento do motor no plano de carga melhora a retilineidade, a planicidade e a precisão angular.
Isolamento térmicoOs motores são isolados da estrutura do palco; refrigeração opcional a ar ou a água para ciclos de trabalho elevados.

Especificações

Modelo	400-400	500-500	600-600
Machados	X (escanear) / Y (passo)	X (escanear) / Y (passo)	X (escanear) / Y (passo)
Deslocamento (mm)	400 / 400	500 / 500	600 / 600
Precisão (μm)	±0,15	±0,2	±0,2
Repetibilidade (nm)	±75	±100	±100
Resolução (nm)	0,3	0,3	0,3
Velocidade máxima (m/s)	1	1	1
Aceleração (g)	4	4	4
Retidão (μm)	±0,2	±0,3	±0,4
Estabilidade (nm)	±5	±5	±5
Carga máxima (kg)	20	20	20
Inclinação/Rotação/Gira (segundos de arco)	±1	±1	±1

Condições de teste:

Fornecimento de ar: limpo e seco; ponto de orvalho ≤ 0°F; filtração de partículas ≤ 0,25 μm; ou 99,99% de nitrogênio.
Precisão medida a 25 mm acima do centro da plataforma a 20±1 °C, 40–60% UR.

Aplicações

Litografia de semicondutores, inspeção e manuseio de wafers
Fabricação micro/nano e metrologia de precisão
Fabricação de óptica de alta qualidade e interferometria
Aeroespacial e pesquisa científica avançada

Perguntas frequentes – Estágio com mancais de ar em carboneto de silício

1. O que é um estágio com rolamento de ar?

Uma plataforma com rolamentos de ar utiliza uma fina película de ar pressurizado entre a plataforma e a guia para proporcionarMovimento sem atrito, sem desgaste e extremamente suaveAo contrário dos rolamentos mecânicos convencionais, ele elimina o efeito stick-slip, oferece precisão em nível nanométrico e garante confiabilidade a longo prazo.

2. Por que usar carboneto de silício (SiC) para a estrutura do palco?

Alta rigidez: ~5 vezes maior que a da liga de alumínio, minimizando a deformação durante o movimento dinâmico.
Baixa expansão térmica: ~5 vezes menor que o alumínio, mantendo a precisão sob variações de temperatura.
LeveDensidade inferior à do aço, permitindo operação em alta velocidade e alta aceleração.
Excelente estabilidadeAmortecimento e rigidez superiores para posicionamento de ultraprecisão.

3. O palco requer lubrificação ou manutenção?

Não é necessária lubrificação tradicional, pois existesem contato mecânicoA manutenção recomendada inclui:

Fornecimentoar comprimido limpo e seco ou nitrogênio
Inspeção periódica de filtros e secadores
Monitoramento de cabos e sistemas de refrigeração

4. Quais são os requisitos de fornecimento de ar?

Ponto de orvalho: ≤ 0 °F (≈ –18 °C)
Filtração de partículas: ≤ 0,25 μm
Ar limpo e seco ou nitrogênio com pureza de 99,99%
Pressão estável com flutuação mínima

Sobre nós

A XKH é especializada no desenvolvimento, produção e venda de alta tecnologia de vidros ópticos especiais e novos materiais cristalinos. Nossos produtos atendem aos setores de eletrônica óptica, eletrônicos de consumo e militar. Oferecemos componentes ópticos de safira, lentes para celulares, cerâmica, LT (tecido de baixa temperatura), carbeto de silício (SiC), quartzo e wafers de cristal semicondutor. Com expertise qualificada e equipamentos de ponta, nos destacamos no processamento de produtos não padronizados, com o objetivo de nos tornarmos uma empresa líder em alta tecnologia de materiais optoeletrônicos.