Wafer de safira de 2 polegadas (50,8 mm) - Plano C, Plano M, Plano R, Plano A - Espessura: 350 µm, 430 µm, 500 µm

Descrição resumida:

A safira é um material com uma combinação única de propriedades físicas, químicas e ópticas, que a tornam resistente a altas temperaturas, choque térmico, erosão por água e areia e riscos.


Características

Especificação de diferentes orientações

Orientação

Eixo C(0001)

Eixo R(1-102)

Eixo M(10-10)

Eixo A(11-20)

Propriedade física

O eixo C possui luz cristalina, enquanto os demais eixos possuem luz negativa. O plano C é plano, preferencialmente recortado.

O plano R é um pouco mais difícil que o plano A.

A lâmina em formato de M é serrilhada em degraus, não é fácil de cortar, mas sim fácil de cortar. A dureza do plano A é significativamente maior do que a do plano C, o que se manifesta na resistência ao desgaste, resistência a riscos e alta dureza; o plano lateral A é um plano em ziguezague, o que facilita o corte;
Aplicações

Substratos de safira com orientação C são usados ​​para o crescimento de filmes depositados de semicondutores III-V e II-VI, como o nitreto de gálio, que podem ser utilizados na produção de LEDs azuis, diodos laser e detectores de infravermelho.
Isso se deve principalmente ao fato de o processo de crescimento de cristais de safira ao longo do eixo C ser maduro, o custo ser relativamente baixo, as propriedades físicas e químicas serem estáveis ​​e a tecnologia de epitaxia no plano C ser madura e estável.

Crescimento de substrato orientado em direção à direção R de diferentes extrassístais de silício depositados, utilizados em circuitos integrados de microeletrônica.
Além disso, circuitos integrados de alta velocidade e sensores de pressão também podem ser fabricados no processo de produção de filmes de crescimento epitaxial de silício. O substrato do tipo R também pode ser usado na produção de chumbo, outros componentes supercondutores, resistores de alta resistência e arseneto de gálio.

É utilizado principalmente para o crescimento de filmes epitaxiais de GaN não polares/semipolares, visando melhorar a eficiência luminosa. A orientação A em relação ao substrato produz uma permissividade/meio uniforme, e um alto grau de isolamento é utilizado na tecnologia de microeletrônica híbrida. Supercondutores de alta temperatura podem ser produzidos a partir de cristais alongados com base A.
Capacidade de processamento Substrato de Safira Padronizado (PSS): Através de processos de crescimento ou corrosão, padrões de microestrutura regulares em nanoescala são projetados e fabricados no substrato de safira para controlar o formato da emissão de luz do LED, reduzir os defeitos diferenciais entre as camadas de GaN que crescem sobre o substrato, melhorar a qualidade da epitaxia, aumentar a eficiência quântica interna do LED e, consequentemente, a eficiência de extração de luz.
Além disso, prismas de safira, espelhos, lentes, orifícios, cones e outras peças estruturais podem ser personalizados de acordo com as necessidades do cliente.

Declaração de propriedade

Densidade Dureza ponto de fusão Índice de refração (visível e infravermelho) Transmissão (DSP) constante dielétrica
3,98 g/cm³ 9 (Mohs) 2053℃ 1,762~1,770 ≥85% 11,58 a 300 K no eixo C (9,4 no eixo A)

Diagrama detalhado

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