Máquina de polimento por feixe de íons para safira SiC Si

Descrição resumida:

A máquina de polimento e acabamento por feixe de íons baseia-se no princípio da pulverização iônica. Dentro de uma câmara de alto vácuo, uma fonte de íons gera plasma, que é acelerado em um feixe de íons de alta energia. Este feixe bombardeia a superfície do componente óptico, removendo material em escala atômica para obter correção e acabamento de superfície ultraprecisos.

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Características

Diagrama detalhado

Visão geral do produto: Máquina de polimento por feixe de íons

Por ser um processo sem contato, o polimento por feixe de íons elimina o estresse mecânico e evita danos subsuperficiais, tornando-o ideal para a fabricação de componentes ópticos de alta precisão usados em astronomia, aeroespacial, semicondutores e aplicações de pesquisa avançada.

Princípio de funcionamento da máquina de polimento por feixe de íons

Geração de íons
Um gás inerte (por exemplo, argônio) é introduzido na câmara de vácuo e ionizado por meio de uma descarga elétrica para formar plasma.

Aceleração e formação do feixe
Os íons são acelerados a várias centenas ou milhares de elétron-volts (eV) e moldados em um feixe focalizado e estável.

Remoção de Material
O feixe de íons remove fisicamente os átomos da superfície por pulverização catódica, sem iniciar reações químicas.

Detecção de erros e planejamento de trajetória
As variações na figura da superfície são medidas por interferometria. Funções de remoção são aplicadas para determinar os tempos de permanência e gerar trajetórias de ferramenta otimizadas.

Correção em circuito fechado
Ciclos iterativos de processamento e medição continuam até que as metas de precisão RMS/PV sejam atingidas.

Principais características da máquina de polimento por feixe de íons

Compatibilidade universal com superfícies– Processa superfícies planas, esféricas, asféricas e de forma livre.

Taxa de remoção ultraestável– Permite correção de figuras com precisão subnanométrica

Processamento sem danos– Sem defeitos subterrâneos ou alterações estruturais

Desempenho consistente– Funciona igualmente bem em materiais de dureza variável

Correção de baixa/média frequência– Elimina erros sem gerar artefatos de média/alta frequência

Baixa necessidade de manutenção– Operação contínua de longa duração com tempo de inatividade mínimo

Principais especificações técnicas da máquina de polimento por feixe de íons

Item	Especificação
Método de processamento	Pulverização iônica em ambiente de alto vácuo
Tipo de processamento	Polimento e modelagem de superfícies sem contato
Tamanho máximo da peça de trabalho	Φ4000 mm
Eixos de movimento	3 eixos / 5 eixos
Estabilidade de remoção	≥95%
Precisão da superfície	PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (RMS típico < 1 nm; PV < 15 nm)
Capacidade de correção de frequência	Remove erros de baixa a média frequência sem introduzir erros de média/alta frequência.
Operação contínua	3 a 5 semanas sem manutenção do vácuo
Custo de manutenção	Baixo

Capacidades de processamento da máquina de polimento por feixe de íons

Tipos de superfície suportados

Simples: plano, esférico, prismático

Complexo: Asfera simétrica/assimétrica, asfera fora do eixo, cilíndrica

Especial: Óptica ultrafina, óptica de lâminas, óptica hemisférica, óptica conforme, placas de fase, superfícies de forma livre

Materiais de apoio

Vidro óptico: Quartzo, microcristalino, K9, etc.

Materiais infravermelhos: Silício, germânio, etc.

Metais: Alumínio, aço inoxidável, liga de titânio, etc.

Cristais: YAG, carbeto de silício monocristalino, etc.

Materiais duros/quebradiços: Carbeto de silício, etc.

Qualidade/Precisão da Superfície

PV < 10 nm

RMS ≤ 0,5 nm

Estudos de caso de processamento de máquinas de polimento por feixe de íons

Caso 1 – Espelho Plano Padrão

Peça de trabalho: placa plana de quartzo com 630 mm de diâmetro

Resultado: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

Caso 2 – Espelho refletor de raios X

Peça de trabalho: placa plana de silicone de 150 × 30 mm

Resultado: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Inclinação 0,13 µrad

Caso 3 – Espelho fora do eixo

Peça de trabalho: espelho retificado fora do eixo de D326 mm

Resultado: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

Perguntas frequentes sobre copos de quartzo

Perguntas frequentes – Máquina de polimento por feixe de íons

P1: O que é polimento por feixe de íons?
A1:O polimento por feixe de íons é um processo sem contato que utiliza um feixe focalizado de íons (como íons de argônio) para remover material da superfície de uma peça. Os íons são acelerados e direcionados para a superfície, causando a remoção de material em nível atômico, resultando em acabamentos extremamente lisos. Esse processo elimina o estresse mecânico e os danos subsuperficiais, tornando-o ideal para componentes ópticos de precisão.

Q2: Que tipos de superfícies a máquina de polimento por feixe de íons pode processar?
A2:OMáquina de polimento por feixe de íonspode processar uma variedade de superfícies, incluindo componentes ópticos simples comoplanos, esferas e prismas, bem como geometrias complexas comoasféricas, asféricas fora do eixo, esuperfícies de forma livreÉ especialmente eficaz em materiais como vidro óptico, óptica infravermelha, metais e materiais duros/quebradiços.

P3: Com que materiais a máquina de polimento por feixe de íons pode trabalhar?
A3:OMáquina de polimento por feixe de íonsPode polir uma ampla gama de materiais, incluindo:

Vidro ópticoQuartzo, microcristalino, K9, etc.
Materiais infravermelhosSilício, germânio, etc.
MetaisAlumínio, aço inoxidável, liga de titânio, etc.
Materiais cristalinos: YAG, carbeto de silício monocristalino, etc.
Outros materiais duros/quebradiçosCarboneto de silício, etc.

Sobre nós

A XKH é especializada no desenvolvimento, produção e venda de alta tecnologia de vidros ópticos especiais e novos materiais cristalinos. Nossos produtos atendem aos setores de eletrônica óptica, eletrônicos de consumo e militar. Oferecemos componentes ópticos de safira, lentes para celulares, cerâmica, LT (tecido de baixa temperatura), carbeto de silício (SiC), quartzo e wafers de cristal semicondutor. Com expertise qualificada e equipamentos de ponta, nos destacamos no processamento de produtos não padronizados, com o objetivo de nos tornarmos uma empresa líder em alta tecnologia de materiais optoeletrônicos.